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等離子蝕刻設(shè)備的高厚孔徑比能做多少，孔內(nèi)均勻性能做多少_珠海恒格微電子裝備有限公司
等離子蝕刻設(shè)備的高厚孔徑比能做多少，孔內(nèi)均勻性能做多少
2020-05-29
master
3876
我們目前處理過等離子蝕刻設(shè)備最高的厚徑比是40:1，孔內(nèi)均勻性能做大于>60%, 20:1 >70%。
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